微影設備大廠艾司摩爾（ASML）推動極紫外光（EUV）技術世代交替快馬加鞭，與晶圓代工龍頭台積電（2330）的合作已有突破性進展，每日曝光晶圓數量超過千片，並宣示將擴大與台灣半導體生產鏈合作，EUV光罩盒（EUV Pod）供應商家登（3680）、設備代工廠帆宣（6196）將直接受惠。
半導體先進製程將在2017年進入10奈米世代，2020年前7奈米將正式進入量產，由於目前採用的浸潤式多重曝光（multi-patterning）微影技術，用來生產10奈米或7奈米晶片的成本太高，所以包括英特爾、台積電（2330）、三星等半導體大廠，均看好EUV將是未來微影技術主流。
ASML發言人Lucas van Grinsven表示，今年是摩爾定律發明的第50年，過去10年，每年都有人說摩爾定律即將失效，但微影技術的不斷演進，如今獲得明顯突破，單日曝光量再次刷新EUV微影系統生產力新紀錄。
ASML著眼於10奈米以下製程挑戰，推出包括EUV微影系統、Yield Star量測系統等在內的全方位微影解決方案。Lucas van Grinsven表示將擴大與台灣半導體生產鏈合作，如Yield Star設備將全數移到台灣組裝製造並出貨給全球主要客戶。
國內設備廠看好ASML將關鍵零組件及模組委外代工，已積極爭取訂單，與ASML合作多年的帆宣及家登成功躋身Yield Star量測系統供應鏈，可望成為主要受惠者，今年訂單能見度已看到年底。尤其家登是全球唯二通過大廠認證的供應商，出貨量可望逐季跳增，有助於大幅提升營收及獲利。
